[发明专利]一种用于半导体的清洗液在审
| 申请号： | 201711439519.X | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109976108A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;赵鹏;刘兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于半导体的清洗液，其含有：氟化物、有机胺、水、含氮多元酸及有机还原性酸及其盐。本发明的清洗液清洗能力强，可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物，尤其是在铜马士革工艺中灰化后的残留物。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗液 半导体 等离子刻蚀残留物 半导体制程 还原性酸 清洗能力 多元酸 氟化物 有机胺 灰化 去除 | ||
【主权项】：
1.一种用于半导体的清洗液，其特征在于，包括，氟化物、有机胺、含氮多元酸，有机还原性酸及其盐，以及水。
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