[发明专利]含硼小分子的制备方法在审
申请号: | 201711444042.4 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108864160A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 田广辉;吴建忠;俞蒋辉;田辉;肖建虎;庞珍强 | 申请(专利权)人: | 苏州旺山旺水生物医药有限公司 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;C07F7/18 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 汪青 |
地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种含硼小分子5‑(4‑氰基苯氧基)‑1,3‑二氢‑1‑羟基‑2,1‑苯并氧杂硼杂环物二烯的制备方法,其包括(1)使2‑溴‑5‑羟基苯甲醛在还原剂存在下和溶剂中发生还原反应得到2‑溴‑5‑羟基苯甲醇;(2)使2‑溴‑5‑羟基苯甲醇在碱存在下、溶剂中与羟基保护试剂反应;(3)使前步反应产物在碱性条件下、溶剂中与硼酸酯反应;(4)使前步反应产物脱去羟基保护基得到苯并[c][1,2]氧杂硼杂环戊二烯‑1,5(3H)‑二醇体;(5)使前步产物与对氟苯甲腈在碱性条件下、溶剂中反应即得目标物。本发明工艺路线原料廉价易得、反应收率显著提高,操作简单,成本较低,适合工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 溶剂 羟基苯甲醇 碱性条件 小分子 氧杂硼 杂环 制备 羟基保护试剂 对氟苯甲腈 氰基苯氧基 羟基保护基 羟基苯甲醛 反应收率 工艺路线 还原反应 还原剂 目标物 硼酸酯 戊二烯 二醇 二烯 脱去 羟基 | ||
【主权项】:
1.一种含硼小分子的制备方法,所述含硼小分子为5‑(4‑氰基苯氧基)‑1,3‑二氢‑1‑羟基‑2,1‑苯并氧杂硼杂环物二烯,结构如式Ⅰ所示:其特征在于,所述制备方法包括使式VI所示的中间体即苯并[c][1,2]氧杂硼杂环戊二烯‑1,5(3H)‑二醇,与对氟苯甲腈在碱性条件下、溶剂中反应得到所述含硼小分子的步骤。
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