[发明专利]基于SiC热电材料的高温热流传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711447533.4 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108007580B 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 李铁;田伟;王跃林 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G01J5/12 分类号: G01J5/12;H01L35/32;H01L35/34
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基于SiC热电材料的高温热流传感器及其制备方法,包括:SiC衬底,具有第一表面和第二表面,第一表面上设有沟槽及由沟槽围绕形成的平台区域;复合介质膜,覆盖沟槽及平台区域;隔热腔体,设于SiC衬底中,由第二表面向内凹入,位于平台区域的部分复合介质膜下方;P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块,位于平台区域的复合介质膜上,且局部位于隔热腔体上方;绝缘介质层,覆盖P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块以及复合介质膜;金属图层,形成于绝缘介质层上,包括电极及引线,将P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块连接形成热电堆。本发明采用具有优异高温性能的单晶SiC作为热电材料,可实现高温恶劣环境中热流密度的快速、准确测量。
搜索关键词: 基于 sic 热电 材料 高温 热流 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于SiC热电材料的高温热流传感器,其特征在于,包括:SiC衬底,所述SiC衬底具有第一表面和第二表面,在所述第一表面上设有沟槽以及由所述沟槽围绕形成的平台区域;复合介质膜,位于所述SiC衬底的第一表面,覆盖所述沟槽表面及所述平台区域表面;隔热腔体,设于所述SiC衬底中,由所述SiC衬底的第二表面向内凹入,位于所述平台区域的部分所述复合介质膜的下方;P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块,位于所述平台区域位置的所述复合介质膜上,且局部位于所述隔热腔体的上方;绝缘介质层,覆盖所述P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块以及所述复合介质膜;金属图层,形成于所述绝缘介质层上,包括电极及引线,以将所述P型SiC薄膜电阻块及N型SiC薄膜电阻块连接形成热电堆。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711447533.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top