[发明专利]一种量子点光刻胶及其制备方法、量子点彩膜的制备方法有效
| 申请号： | 201711448281.7 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109976089B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 朱舒卷;曹蔚然 | 申请（专利权）人： | TCL科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C09K11/88;C09K11/02 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 王永文;刘文求 |
| 地址： | 516006 广东省惠州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种量子点光刻胶及其制备方法、量子点彩膜的制备方法，其中，所述量子点光刻胶，包括光刻胶基材以及掺杂在所述光刻胶基材中的量子点材料，所述量子点材料表面结合有有机配体，通过有机配体的配位作用既提高了量子点的发光强度，又可以防止量子点团聚，提高了量子点的稳定性，进而可以通过光刻的方式即形成稳定的量子点彩膜，易于实现量产，解决了现有制备量子点彩膜的工艺复杂且所制备的量子点彩膜质量不佳的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 量子 光刻 及其 制备 方法 点彩膜 | ||
【主权项】：
1.一种量子点光刻胶，其特征在于，包括光刻胶基材以及掺杂在所述光刻胶基材中的量子点材料，所述量子点材料表面结合有有机配体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL科技集团股份有限公司，未经TCL科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711448281.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
