[发明专利]一种超厚含氢类金刚石涂层的制备方法在审
申请号: | 201711452179.4 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN109972089A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 杨发展;沈丽如;颜复秀;许泽金;唐德礼;金凡亚 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院;成都同创材料表面科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/34;C23C14/35;C23C28/00 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于低温等离子体材料表面处理技术,具体为一种超厚含氢类金刚石涂层的制备方法,工件表面清洗除气之后,再进行等离子体清洗,依次沉积金属中间层、金属碳化物中间层和类金刚石涂层,类金刚石涂层分18层依次沉积,沉积方式为磁控溅射,金属磁控靶材为钛、铬、钨和钼金属靶材,通过本方法制备的类金刚石涂层致密、摩擦系数低、耐腐蚀性能优异、膜基结合强度高,厚度大于100μm,适合高精度抛光等光学元件部件。 | ||
搜索关键词: | 类金刚石涂层 制备 中间层 超厚 沉积 材料表面处理技术 致密 等离子体清洗 低温等离子体 工件表面清洗 高精度抛光 金属碳化物 耐腐蚀性能 沉积金属 磁控溅射 光学元件 金属靶材 摩擦系数 磁控靶 钨和钼 除气 膜基 金属 | ||
【主权项】:
1.一种超厚含氢类金刚石涂层的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)工件表面清洗;2)真空烘烤除气;工件放置在真空室中,在真空度达到1.0×10‑2Pa的环境下,对工件烘烤除气;3)等离子体清洗;4)沉积金属中间层;5)沉积金属碳化物中间层;6)沉积类金刚石涂层;分18层依次沉积,真空室内通入氢气、乙炔、氩气混合气体作为工作气体;7)工件冷却后取出工件。
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