[发明专利]一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层的制备方法在审
申请号: | 201711452193.4 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN109972101A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 唐德礼;杨发展;许传凯;张异华;林剑冰;金凡亚 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院;成都同创材料表面科技有限公司;路达(厦门)工业有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/46;C23C14/06;C23C14/16 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于低温等离子体材料处理技术领域,具体为一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层的制备方法,工件表面清洗之后,将工件安装到真空室工件架固定夹具上,进行真空烘烤除气和等离子体清洗,之后依次沉积金属中间层、金属碳化物中间层和类金刚石涂层,该类金刚石涂层颗粒尺寸小于100nm,金属元素百分比含量低于10%,表面颜色均匀,特别是能够获得高黑度涂层,同时涂层表面均匀致密,膜/基结合强度大,硬度高,摩擦系数低,耐腐蚀性能优异,sp3键含量较大,适合大型工业化生产需求。 | ||
搜索关键词: | 类金刚石涂层 金属纳米 低掺杂 中间层 制备 材料处理技术 等离子体清洗 低温等离子体 工件表面清洗 大型工业化 金刚石涂层 金属碳化物 耐腐蚀性能 表面颜色 沉积金属 工件安装 固定夹具 金属元素 均匀致密 摩擦系数 生产需求 涂层表面 真空烘烤 高黑度 工件架 真空室 除气 | ||
【主权项】:
1.一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层,其特征在于:包括自下而上依次沉积的金属中间层、金属碳化物中间层和类金刚石涂层,其中金属中间层沉积在工件表面。
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