[发明专利]一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711452193.4 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN109972101A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 唐德礼;杨发展;许传凯;张异华;林剑冰;金凡亚 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院;成都同创材料表面科技有限公司;路达(厦门)工业有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/46;C23C14/06;C23C14/16
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高安娜
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于低温等离子体材料处理技术领域,具体为一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层的制备方法,工件表面清洗之后,将工件安装到真空室工件架固定夹具上,进行真空烘烤除气和等离子体清洗,之后依次沉积金属中间层、金属碳化物中间层和类金刚石涂层,该类金刚石涂层颗粒尺寸小于100nm,金属元素百分比含量低于10%,表面颜色均匀,特别是能够获得高黑度涂层,同时涂层表面均匀致密,膜/基结合强度大,硬度高,摩擦系数低,耐腐蚀性能优异,sp3键含量较大,适合大型工业化生产需求。
搜索关键词: 类金刚石涂层 金属纳米 低掺杂 中间层 制备 材料处理技术 等离子体清洗 低温等离子体 工件表面清洗 大型工业化 金刚石涂层 金属碳化物 耐腐蚀性能 表面颜色 沉积金属 工件安装 固定夹具 金属元素 均匀致密 摩擦系数 生产需求 涂层表面 真空烘烤 高黑度 工件架 真空室 除气
【主权项】:
1.一种低掺杂金属纳米类金刚石涂层,其特征在于:包括自下而上依次沉积的金属中间层、金属碳化物中间层和类金刚石涂层,其中金属中间层沉积在工件表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核工业西南物理研究院;成都同创材料表面科技有限公司;路达(厦门)工业有限公司,未经核工业西南物理研究院;成都同创材料表面科技有限公司;路达(厦门)工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711452193.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code