[发明专利]一种掩模版及光波导反射面和光波导的制备方法有效
| 申请号： | 201711459228.7 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108169841B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 肖垣明;赵飞;党元兰;陈雨;刘晓兰;梁广华;徐亚新;庄治学;张莹;卢立东 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十四研究所 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 13124 河北东尚律师事务所 | 代理人： | 王文庆 |
| 地址： | 050081 河北省石家*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模版及光波导反射面和光波导的制备方法，涉及光传输结构及制造技术领域。其通过一种特殊设计的掩模版实现对光刻过程的透光量的控制，当紫外光穿过掩模版时，不同透光量位置处的光刻深度不同，从而形成一个坡面结构，同时，相邻的两个微型透光区域之间会形成光的衍射，因此，光刻出的坡面并非是一个凹凸不平的阶梯面，而是一个平滑的反射面。这种利用掩模版通过光刻形成反射面的方式简单易行，且该种掩模版也具有结构简单、成本低廉、易于制备的特点，可见本发明方法极大地简化了光波导反射面的制备过程，降低了反射面的制备成本，具有极强的可推广性，相对于现有技术是一种重要进步。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 光波导 制备 反射面 光刻 反射 透光量 光传输结构 凹凸不平 坡面结构 透光区域 制备过程 紫外光 阶梯面 推广性 位置处 平滑 坡面 衍射 穿过 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光波导反射面的制备方法，其特征在于，所述反射面由用于形成光波导芯层的光刻胶经光刻工艺形成，光刻过程中所使用的掩膜版上具有多个微圆图形，所述掩膜版通过对应于反射面不同高度处的微圆图形的大小和密度控制该处掩模版的透光量，透过掩模版的光线通过衍射现象实现对反射面处光刻胶的平滑光刻。/n
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