[发明专利]多光谱显微成像系统有效
| 申请号： | 201711460224.0 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN107941775B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 戴琼海;何继军;吴嘉敏 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多光谱显微成像系统,包括：显微镜，用于将显微样本放大并成像到像面引出口；调制掩膜，调制掩膜位于显微镜的输出像面上，以约束后级成像视场范围，并加入随机掩膜调制；滤光片，滤光片位于视场光阑后，以对来自显微样本的光照信息进行窄带滤波，约束系统成像光谱范围；色散单元，用于将样本上各点光谱信息在空间上展开；像感器，用于记录经前级调制的样本图像，以通过色散和掩膜调制在一张或两张重建出多种标记图像。该系统可以仅采用一张或两张图像重建出多种标记图像，提高成像速度，提高图像分辨率，减少激光对光敏样本、生物样本的破坏，并且结构简单，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 显微 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种多光谱显微成像系统，其特征在于，包括：显微镜，用于将显微样本放大并成像到像面引出口；调制掩膜，所述调制掩膜位于所述显微镜的输出像面上，以约束后级成像视场范围，并加入随机掩膜调制；滤光片，所述滤光片位于视场光阑后，以对来自所述显微样本的光照信息进行窄带滤波，约束系统成像光谱范围；色散单元，用于将所述样本上各点光谱信息在空间上展开；以及像感器，用于记录经前级调制的样本图像，以通过色散和掩膜调制在一张或两张重建出多种标记图像。
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