[发明专利]一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法有效
| 申请号： | 201711461422.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108169827B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 邓文渊;李春;金春水;姚舜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B27/10 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法，所述制备方法包括：获取所述深紫外波段宽带分束薄膜中膜层的目标沉积厚度；依据所述目标沉积厚度，对所述膜层进行实验沉积；在所述膜层沉积完成后，获取所述膜层的测量误差值；依据所述目标沉积厚度和所述测量误差值，获取所述膜层的实际沉积厚度；依据所述实际沉积厚度，对所述膜层进行沉积。所述制备方法消除了各个膜层沉积过程中产生的热扰动所导致的晶振厚度测量误差对深紫外波段宽带全介质分束薄膜性能产生的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 膜层 深紫外波段 分束薄膜 宽带 制备 膜层沉积 测量 厚度测量 全介质 热扰动 中膜层 晶振 | ||
【主权项】：
1.一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：/n获取所述深紫外波段宽带分束薄膜中膜层的目标沉积厚度；/n依据所述目标沉积厚度，对所述膜层进行实验沉积；/n在所述膜层沉积完成后，获取所述膜层的测量误差值；/n依据所述目标沉积厚度和所述测量误差值，获取所述膜层的实际沉积厚度；/n依据所述实际沉积厚度，对所述膜层进行沉积；/n其中，所述依据所述目标沉积厚度，对所述膜层进行实验沉积包括：/n采用等离子辅助电子束蒸发沉积技术，在所述膜层沉积开始时，打开高级等离子源挡板和电子束蒸发源挡板，依据所述目标沉积厚度以及基于预设角度入射，对所述膜层进行实验沉积；/n其中，所述在所述膜层沉积完成后，获取所述膜层的测量误差值包括：/n在所述膜层沉积完成后，关闭所述高级等离子源挡板和所述电子束蒸发源挡板，获取高级等离子体和电子束蒸发材料之间热扰动所产生的所述测量误差值。/n
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