[发明专利]一种聚焦磁场调控装置有效

专利信息
申请号: 201711470161.7 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN107946018B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 宋佳祥;刘国强;夏慧;李元园;李艳红;丁广鑫 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;A61N2/02
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种聚焦磁场调控装置,包括两对励磁线圈、两对磁场聚磁磁极、两个磁场聚焦线圈和一台控制器;控制器分别与两对励磁线圈和两个磁场聚集线圈相连;两对所述的励磁线圈分别绕制在两个磁场聚焦磁极上,每一对的两个励磁线圈同轴布置,且两对励磁线圈的中轴线相互垂直。两对励磁线圈之间的间距大于等于磁纳米颗粒分布区域的直径。所述的励磁线圈组产生用于使磁纳米颗粒顺磁场方向移动的磁力,控制磁性纳米颗粒的移动方向。励磁线圈、磁场聚磁磁极和磁场聚焦线圈共同控制磁性纳颗粒聚集的方向、速度和聚集区域。
搜索关键词: 一种 聚焦 磁场 调控 装置
【主权项】:
一种聚焦磁场调控装置,其特征在于:所述的聚焦磁场调控装置包括两对励磁线圈、两对磁场聚焦磁极、两个磁场聚焦线圈和一台控制器(A15);控制器(A15)分别与两对励磁线圈和两个磁场聚焦线圈相连接;两对所述的励磁线圈分别绕制在两个磁场聚焦磁极上,每一对的两个励磁线圈同轴布置,且两对励磁线圈的中心轴线相互垂直;两对励磁线圈之间的间距大于等于磁纳米颗粒分布区域的直径;两个磁场聚焦线圈的轴线相互垂直,两个磁场聚焦线圈的中心轴线分别与每一对励磁线圈的中心轴线重合;磁场聚焦线圈的直径大于等于磁纳米颗粒分布区域的直径;每对磁场聚焦磁极同轴布置,每对的两个磁场聚焦磁极之间布置有一个磁场聚焦线圈;通入磁场聚焦线圈的电流与平行于轴线放置的励磁线圈的电流方向相同,使得磁场聚焦线圈产生的磁场方向与励磁线圈磁场产生的方向相同,增强目标治疗区域的磁场。
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