[发明专利]一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 201711475583.3 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109988508A | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 霍军朝;侯蕾;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01F1/44 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 严晨;许亦琳 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及精密抛光技术领域，特别是涉及一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，包括如下组分：硅溶胶、金属表面保护剂、分散剂、pH缓冲剂、磁性粒子保护剂、所述抛光液的pH值为9‑13。本发明针对如何使抛光液与磁性粒子相互配合，克服磁性粒子本身具有的易团聚、易板结和易被腐蚀等缺点，所提供的抛光液能够解决磁流变抛光过程中出现的磁流变液板结、寿命短，抛光后表面出现划伤、异色和难清洗等问题，具有优良的产业化前景。 | ||
| 搜索关键词： | 硅溶胶 金属抛光液 磁性粒子 抛光液 基磁 流变 板结 制备 金属表面保护剂 磁流变抛光 磁流变液 精密抛光 保护剂 产业化 分散剂 后表面 抛光 划伤 异色 清洗 团聚 腐蚀 配合 | ||
【主权项】：
1.一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，按重量百分比计，包括如下组分：![]()
所述抛光液的pH值为9‑13。
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