[发明专利]基板干法刻蚀装置在审
| 申请号： | 201711485183.0 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108063082A | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 罗浩;张毅先;任思雨;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/20;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 叶剑 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板干法刻蚀装置，包括上电极板、下电极板和若干支撑凸起件；上电极板和下电极板相对且间隔设置；下电极板上开设有若干活动孔和若干气孔，各气孔贯穿下电极板的两个相背的表面，各活动孔开设于下电极板朝向上电极板的一面；每一支撑凸起件活动插设于一活动孔内，各活动孔的宽度相同，且各活动孔的截面的形状相同，每一支撑凸起件与对应的活动孔的侧壁抵接；各支撑凸起件凸起于下电极板的表面的最大高度相同。通过调整支撑凸起件凸起于下电极板表面的高度，使得凸起至最大高度的支撑凸起件抵接于大板上的空闲区，避免支撑凸起件抵接于大板上的像素区，从而有效避免基板在刻蚀过程中产生不良的斑点，使得基板的刻蚀效果更佳。 | ||
| 搜索关键词： | 基板干法 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板干法刻蚀装置，其特征在于，包括上电极板、下电极板和若干支撑凸起件；所述上电极板和所述下电极板相对且间隔设置；所述下电极板上开设有若干活动孔和若干气孔，各所述气孔贯穿所述下电极板的两个相背的表面，各所述活动孔开设于所述下电极板朝向所述上电极板的一面；每一所述支撑凸起件活动插设于一所述活动孔内，各所述活动孔的宽度相同，且各所述活动孔的截面的形状相同，每一所述支撑凸起件与对应的所述活动孔的侧壁抵接；各所述支撑凸起件凸起于所述下电极板的表面的最大高度相同。
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