[发明专利]一种OLED功能层喷墨打印制备方法及其掩膜板有效
申请号: | 201711498195.7 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108183179B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 邓联谱 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种OLED功能层喷墨打印制备方法,包括以下步骤:提供掩膜板基体,对掩膜板基体进行疏水处理,形成疏水层;在具有疏水层的掩膜板基体表面沉积缓冲层,形成掩膜板;将掩膜板的缓冲层与TFT阵列基板对位贴合,使掩模板阵列通孔与TFT阵列基板上预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置;在掩模板上的阵列通孔处使用喷墨打印工艺,注入OLED HIL功能层墨水材料,再将掩膜板和TFT阵列基板一同进行干燥,使OLED功能层墨水干燥,随后去除掩膜板,得到OLED功能层。利用表面具有疏水层和缓冲层的掩膜板来采用喷墨打印法制备OLED功能层,省略了像素bank的制备工艺,大大简化了生产工艺,降低了生产成本,提高生产效率和OLED的质量。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 功能层 喷墨打印 缓冲层 疏水层 墨水材料 阵列通孔 掩模板 制备 喷墨打印工艺 对位贴合 基体表面 墨水干燥 生产效率 疏水处理 制备工艺 省略 像素 掩膜 生产工艺 沉积 去除 生产成本 | ||
【主权项】:
1.一种OLED功能层喷墨打印制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供掩膜板基体,对所述掩膜板基体进行疏水处理,形成疏水层,所述掩膜板基体上开设有阵列通孔,所述阵列通孔用于喷墨打印工艺时注入OLED功能层墨水材料,所述阵列通孔与预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置;在具有疏水层的所述掩膜板基体表面沉积缓冲层,形成掩膜板,所述掩膜板包括掩膜板基体、疏水层和缓冲层,所述疏水层设置在所述掩膜板基体相对的两侧,所述缓冲层设置在所述掩膜板基体一侧或相对两侧的所述疏水层上;将所述掩膜板的缓冲层与TFT阵列基板对位贴合,使所述阵列通孔与所述TFT阵列基板上所述预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置;在所述阵列通孔处采用喷墨打印工艺注入所述OLED功能层墨水材料,再将所述掩膜板和所述TFT阵列基板一同进行干燥,使所述OLED功能层墨水材料干燥,随后去除所述掩膜板,得到OLED功能层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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