[发明专利]高折射率改性硅烷的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201711500598.0 | 申请日： | 2017-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN108409778B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 刘珠;丁小卫;祝琳 | 申请（专利权）人： | 深圳市安品有机硅材料有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/18 | 分类号： | C07F7/18;C07F7/08;C07F7/12;C08G77/28;C08G77/06 |
| 代理公司： | 深圳市明日今典知识产权代理事务所(普通合伙) 44343 | 代理人： | 王杰辉 |
| 地址： | 518103 广东省深圳市宝安区福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种高折射率改性硅烷，其制备方法包括将含硫杂环单体、硅烷单体与有机溶剂混合，加入酸性稳定剂及催化剂，搅拌条件下滴加水，然后升温反应，降温后进行中和反应，水洗、分离后得到高折射率改性硅烷；所述酸性稳定剂为0≤PKa≤3.0的有机酸。本发明通过改进工艺制备得到含硫杂环改性的硅烷单体，可以用作有机硅材料的添加剂或合成原料，以及作为封装材料的组分，提高产品的透光率，且产品产率高、气味小、利于应用。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 改性 硅烷 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种高折射率改性硅烷，由包括以下步骤的方法制备：将含硫杂环单体、硅烷单体与有机溶剂混合，加入酸性稳定剂及催化剂，搅拌条件下滴加水，然后升温反应，得到高折射率改性硅烷；所述酸性稳定剂为0≤PKa≤3.0的有机酸；所述含硫杂环单体是具有至少一个含硫杂环基团、以及至少一个羟基的化合物，所述含硫杂环基团具有n个硫原子，n为2的整倍数；所述硅烷单体的结构式为：R2R3R4SiX，X为一价可水解官能基，R2、R3、R4选自氢基、2～10个碳原子的链烯基、(甲基)丙烯酸烷基酯基或不含脂肪族不饱和键的单价烃基。
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