[实用新型]一种带观测石墨烯薄膜连续规模化沉积设备有效
申请号: | 201720023816.5 | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN206502862U | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 谢成忠 | 申请(专利权)人: | 谢成忠 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省泉*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供一种带观测石墨烯薄膜连续规模化沉积设备,其结构包括移动轮、控制机体、支撑板、气相沉积箱、观测器,所述移动轮与控制机体活动连接,所述控制机体通过支撑板与气相沉积箱连接,所述观测器通过控制机体与气相沉积箱连接,所述控制机体包括接电开关、接电旋钮、接电头、表计、控制开关、外接头、调节旋钮、指示灯、按键,所述接电开关与控制机体活动连接,所述接电旋钮设于控制机体上,所述控制机体固定设有接电头,所述表计设于控制机体上,本实用新型的一种带观测石墨烯薄膜连续规模化沉积设备,通过设有耐温摄像头、显象器,使设备能够对石墨烯的气相沉淀箱内进行观测,方便了用户对气相沉淀完成度掌握的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 观测 石墨 薄膜 连续 规模化 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种带观测石墨烯薄膜连续规模化沉积设备,其特征在于:其结构包括移动轮(1)、控制机体(2)、支撑板(3)、气相沉积箱(4)、观测器(5),所述移动轮(1)与控制机体(2)活动连接,所述控制机体(2)通过支撑板(3)与气相沉积箱(4)连接,所述观测器(5)通过控制机体(2)与气相沉积箱(4)连接,所述控制机体(2)包括接电开关(20)、接电旋钮(21)、接电头(22)、表计(23)、控制开关(24)、外接头(25)、调节旋钮(26)、指示灯(27)、按键(28),所述接电开关(20)与控制机体(2)活动连接,所述接电旋钮(21)设于控制机体(2)上,所述控制机体(2)固定设有接电头(22),所述表计(23)设于控制机体(2)上,所述控制机体(2)固定设有控制开关(24),所述外接头(25)设于控制机体(2)上,所述调节旋钮(26)与控制机体(2)活动连接,所述控制机体(2)固定设有指示灯(27),所述按键(28)设于控制机体(2)上,所述气相沉积箱(4)包括混气罐(40)、连接管(41)、箱盖(42),所述混气罐(40)通过连接管(41)与气相沉积箱(4)活动连接,所述箱盖(42)与气相沉积箱(4)活动连接,所述观测器(5)包括耐温摄像头(50)、显象器(51)、显象开关(52),所述显象器(51)通过摄像头(50)与气相沉积箱(4)连接,所述观测器(5)通过显象器(51)与控制机体(2)连接,所述显象开关(52)设于显象器(51)上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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