[实用新型]一种镭射镀铝膜有效
| 申请号： | 201720024263.5 | 申请日： | 2017-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN206446229U | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 叶倩媚;卢颖 | 申请（专利权）人： | 佛山市齐兴包装材料有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B33/00;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/30 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)11411 | 代理人： | 张清彦 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市三水*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种镭射镀铝膜，包括镀铝层、镭射介质层、基材层。镭射介质层设置于基材层的一面，镀铝层设置于镭射介质层远离基材层的一面，镀铝层远离镭射介质层的一面设有水性底涂层。本实用新型的镭射镀铝膜的表面设有水性底涂层，该水性底涂层使得镭射镀铝膜的油墨附着力强，印刷性能稳定，复合牢固度增强，因此改善了镭射镀铝膜的印刷性能，镭射镀铝膜的印刷质量问题减少，产品的损耗减少，从而降低了生产成本，大大的提高了印刷企业的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镭射 镀铝 | ||
【主权项】：
一种镭射镀铝膜，包括镀铝层(2)、镭射介质层(3)、基材层(4)，所述镭射介质层(3)设置于所述基材层(4)的一面，所述镀铝层(2)设置于所述镭射介质层(3)远离所述基材层(4)的一面，其特征在于，所述镀铝层(2)远离所述镭射介质层(3)的一面设有水性底涂层(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市齐兴包装材料有限公司，未经佛山市齐兴包装材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720024263.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
