[实用新型]一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置有效
| 申请号： | 201720039898.2 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN206322998U | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 王振国;郑建刚;严雄伟;蒋新颖;田晓琳;龙蛟;张君;张雄军;李明中;吴登生;李敏;张崑;粟敬钦;郑奎兴 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01S3/0941 | 分类号： | H01S3/0941;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)11357 | 代理人： | 刘洪勋 |
| 地址： | 621900 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置，包括增益介质和至少一个均化单元，所述均化单元包括LD阵列、耦合透镜组和耦合多棱镜，通过耦合透镜组和耦合多棱镜对LD阵列发射的泵浦光束进行等分，等分光束的口径无需与增益介质内泵浦区尺寸相同，等分光束通过耦合透镜组进行聚焦或发散，聚焦或发散后的等分光束同时入射至增益介质的泵浦入射面且重合，同时，沿着LD阵列中激光二极管巴条的快轴方向，在泵浦入射面上重合的等分光束的口径与增益介质内泵浦区尺寸相同，增加泵浦区中泵浦光场的样本数，提高泵浦光场的均匀性，有利于平衡增益介质内的热沉积，克服因增益调制而导致被放大激光的近场劣化问题，结构简单，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 ld 耦合 均匀 装置 | ||
【主权项】：
一种提高面阵LD泵浦耦合均匀性的装置，其特征在于，包括增益介质和至少一个均化单元，所述均化单元包括LD阵列、耦合透镜组和耦合多棱镜，所述LD阵列的发光面法线、耦合透镜组的中心法线和耦合多棱镜的中心轴线重合，所述耦合透镜组中透镜的数量与耦合多棱镜的出射面个数相同，所述耦合透镜组和耦合多棱镜将LD阵列发射的泵浦光束等分为多束等分光束，等分光束经耦合透镜组聚焦或发散后同时入射至增益介质的泵浦入射面并在所述泵浦入射面上重合，沿着LD阵列中激光二极管巴条的快轴方向，在泵浦入射面上重合的等分光束的口径与增益介质内泵浦区尺寸相同。
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