[实用新型]一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备有效
| 申请号： | 201720053360.7 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN206479769U | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟 | 申请（专利权）人： | 上海誉刻智能装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 | 代理人： | 彭素琴 |
| 地址： | 201612 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型的双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是实现了对于无定位孔存在的PCB板的内层板的双面曝光的图像精确对位；本实用新型的设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 对位 曝光 装置 含有 激光 设备 | ||
【主权项】：
一种双面对位曝光装置，其特征在于，所述双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海誉刻智能装备有限公司，未经上海誉刻智能装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720053360.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
