[实用新型]一种大尺度自支撑铍薄膜的制备装置有效

专利信息
申请号: 201720060159.1 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN206396319U 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 李恺;吴卫东;罗炳池;罗江山;张吉强;谭秀兰;李文琦;金雷;何玉丹 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/58
代理公司: 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙)51235 代理人: 邓昉
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种大尺度自支撑铍薄膜的制备装置,包括沉积室(1),所述沉积室(1)内上部设置有基片架(2),所述基片架(2)底部设置有基片(3),所述基片(3)下方设置有挡板(4),所述沉积室(1)内下部还设置有坩埚(6)、Ta蒸发舟(7)及电极(8),所述坩埚(6)、Ta蒸发舟(7)均固定在电极(8)上,坩埚(6)位于 Ta蒸发舟(7)内,所述电极(8)通过电源(10)供电,所述坩埚(6)底部还设置有热电偶(11),所述沉积室(1)还连接真空系统(9);采用本实用新型的装置,克服了金属铍的极大脆性,可制备最大尺寸达数十毫米、厚度介于1μm‑10μm的自支撑铍薄膜,而且所得的自支撑铍薄膜质量优良。
搜索关键词: 一种 尺度 支撑 薄膜 制备 装置
【主权项】:
一种大尺度自支撑铍薄膜的制备装置,其特征在于:包括沉积室(1),所述沉积室(1)内上部设置有基片架(2),所述基片架(2)底部设置有基片(3),所述基片(3)下方设置有挡板(4),所述沉积室(1)内下部还设置有坩埚(6)、 Ta蒸发舟(7)及电极(8),所述坩埚(6)、 Ta蒸发舟(7)均固定在电极(8)上,坩埚(6)位于 Ta蒸发舟(7)内,所述电极(8)通过电源(10)供电,所述坩埚(6)底部还设置有热电偶(11),所述沉积室(1)还连接真空系统(9)。
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