[实用新型]亚微米级3D打印光学系统有效
| 申请号： | 201720080201.6 | 申请日： | 2017-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN206489371U | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 胡九龙;贺晓宁;方雷;周建林;朱祺楼 | 申请（专利权）人： | 深圳摩方新材科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙)44248 | 代理人： | 胡玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于3D打印技术领域，具体为亚微米级3D打印光学系统。亚微米级3D打印光学系统，包括依次按照在同一光线路上的DLP投影光机、远心镜头、定焦镜头、反射镜；反射镜的反射光线路上有投影物镜，投影物镜上方有照相物镜。本实用新型提供的一种亚微米级3D打印光学系统，是采用多光学系统级联，简化了现有光固化3D打印机光学系统的设计，设备成本降低，并可以实现更稳定的成型品质；使DLP投影出亚微米级别的图形，从而打印出亚微米精度的三维模型。 | ||
| 搜索关键词： | 微米 打印 光学系统 | ||
【主权项】：
亚微米级3D打印光学系统，其特征在于，包括依次按照在同一光线路上的DLP投影光机（1）、远心镜头（2）、定焦镜头（3）、反射镜（4）；反射镜（4）的反射光线路上有投影物镜（5），投影物镜（5）上方有照相物镜（6）。
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