[实用新型]一种宽带大功率负载芯片有效
申请号: | 201720120435.9 | 申请日: | 2017-02-09 |
公开(公告)号: | CN206413253U | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 谭春明;许欢 | 申请(专利权)人: | 成都泰格微电子研究所有限责任公司 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙)51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 611731 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种宽带大功率负载芯片,包括介质基片(1),所述的介质基片(1)的上表面设置有第一金属带线(2)、第二金属带线(4)和长方形的薄膜电阻层(3),薄膜电阻层(3)设置于第一金属带线(2)和第二金属带线(4)之间,且分别与第一金属带线(2)和第二金属带线(4)电连接;所述介质基片(1)的下表面设置有金属层,介质基片(1)内部设置有连通金属层和第二金属带线(4)的金属化过孔(5)。本实用新型提供了一种宽带大功率负载芯片,能够在宽带大功率负载芯片匹配阻抗固定的前提下,保证其良好的耐受功率。 | ||
搜索关键词: | 一种 宽带 大功率 负载 芯片 | ||
【主权项】:
一种宽带大功率负载芯片,其特征在于:包括介质基片(1),所述的介质基片(1)的上表面设置有第一金属带线(2)、第二金属带线(4)和长方形的薄膜电阻层(3),薄膜电阻层(3)设置于第一金属带线(2)和第二金属带线(4)之间,且分别与第一金属带线(2)和第二金属带线(4)电连接;所述介质基片(1)的下表面设置有金属层,介质基片(1)内部设置有连通金属层和第二金属带线(4)的金属化过孔(5)。
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