[实用新型]一种真空离子镀膜机有效

专利信息
申请号: 201720122038.5 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN206418191U 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 穆可刚 申请(专利权)人: 安徽银立方金属科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京精金石专利代理事务所(普通合伙)11470 代理人: 刘晔
地址: 236000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种真空离子镀膜机,包括平面磁控溅射靶本体及壳体,所述壳体下方设置有向下开口的凹槽,所述凹槽内顶部设置有磁靴,所述磁靴上对称设置有三组电磁线圈;所述凹槽内底部设置有水平布置的铝板,所述铝板下端设置有多个间隔布置的永磁体,所述永磁体通过磁铁座可拆卸安装于铝板下端。本新型结构设计合理,可拆卸的安装方式使得安装及维护方便,同时由于永磁体及电磁线圈的配合设置,使得能够方便改变垂直磁场的大小与分布,进而提高靶材的烧蚀效率;通过水冷延长使用寿命;减少打弧对镀膜的影响。
搜索关键词: 一种 真空 离子 镀膜
【主权项】:
一种真空离子镀膜机,包括平面磁控溅射靶本体及壳体,其特征在于,所述壳体下方设置有向下开口的凹槽,所述凹槽内顶部设置有磁靴,所述磁靴上对称设置有三组电磁线圈;所述凹槽内底部设置有水平布置的铝板,所述铝板下端设置有多个间隔布置的永磁体,所述永磁体通过磁铁座可拆卸安装于铝板下端;所述平面磁控溅射靶本体左右两端分别通过两个第二固定螺栓可拆卸固定于壳体下端,所述平面磁控溅射靶本体下端对称设置有两个卡条,所述卡条之间卡设有靶材;所述平面磁控溅射靶本体下端设置有包围平面磁控溅射靶本体左右侧面及底面的熄弧罩,所述熄弧罩呈U型且其两端通过第一固定螺栓固定于平面磁控溅射靶本体侧面,所述熄弧罩位于靶材下端处设置有与之适配的缺口。
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