[实用新型]一种用于离子束刻蚀的样品台有效
| 申请号： | 201720168014.3 | 申请日： | 2017-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN206451683U | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王长梗;关江敏 | 申请（专利权）人： | 北京创世威纳科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20 |
| 代理公司： | 北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙)11378 | 代理人： | 陈晓平 |
| 地址： | 100085 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种用于离子束刻蚀的样品台，其用于放置待刻蚀的样片，其包括顺序连接的陶瓷环、承载盘、固定盘、旋转轴和支撑盘，所述承载盘设置有凸台，所述凸台的高度不小于所述陶瓷环的厚度，所述陶瓷环环绕所述凸台与所述承载盘固定连接，所述凸台的半径小于所述样片的半径。本实用新型所提供的一种用于离子束刻蚀的样品台，可大大减少刻蚀所产生的溅射污染物，从而有效降低对离子源及样品的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子束 刻蚀 样品 | ||
【主权项】：
一种用于离子束刻蚀的样品台，其用于放置待刻蚀的样片，其特征在于，其包括顺序连接的陶瓷环、承载盘、固定盘、旋转轴和支撑盘，所述承载盘设置有凸台，所述凸台的高度不小于所述陶瓷环的厚度，所述陶瓷环环绕所述凸台与所述承载盘固定连接，所述凸台的半径小于所述样片的半径。
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