[实用新型]石英外管组件及炉管装置有效
申请号: | 201720174656.4 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN206570405U | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 汪剑勇;陈正敏;周冬成;宋凯峰;吴兵 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/458;C30B28/14;C30B29/06 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种石英外管组件,所述石英外管组件包括石英外管,至少所述石英外管底部开口;保护部,所述保护部的一侧与所述石英外管内壁贴合,所述保护部的底部与所述石英外管的底部位于同一平面上,其高度小于所述石英外管管壁的高度。通过上述方案,本实用新型提供的石英外管组件可以保护石英外管在多晶硅薄膜的淀积过程中底部不受损伤;可以防止石英外管顶部有粉尘凝结,以免其掉落在晶舟和晶圆上,从而造成损伤。 | ||
搜索关键词: | 石英 组件 炉管 装置 | ||
【主权项】:
一种石英外管组件,其特征在于,所述石英外管组件包括:石英外管,至少所述石英外管底部开口;保护部,所述保护部的一侧与所述石英外管内壁贴合,所述保护部的底部与所述石英外管的底部位于同一平面上,且所述保护部的高度小于所述石英外管管壁的高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720174656.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于线材卷绕镀膜机的卷绕镀膜系统
- 下一篇:可消除火焰水解缺陷的沉积装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的