[实用新型]偏振膜的制造装置有效
| 申请号： | 201720175120.4 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN206584069U | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 清水英满 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供对于作业者而言操作性好的偏振膜的制造装置。该偏振膜的制造装置一边沿着输送方向输送聚乙烯醇系树脂膜一边对该聚乙烯醇系树脂膜进行处理而得到偏振膜，其中，所述偏振膜的制造装置具备处理部，该处理部具有对所述聚乙烯醇系树脂膜进行浸渍并处理的多个处理浴；以及使所述聚乙烯醇系树脂膜沿着所述输送方向延伸的延伸部，所述多个处理浴至少具备第一处理浴和配置于第一处理浴的下游侧且平均宽度比第一处理浴的平均宽度小的第二处理浴。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 装置 | ||
【主权项】：
一种偏振膜的制造装置，其一边沿着输送方向输送聚乙烯醇系树脂膜一边对该聚乙烯醇系树脂膜进行处理而得到偏振膜，所述偏振膜的制造装置的特征在于，具备处理部，该处理部具有：对所述聚乙烯醇系树脂膜进行浸渍并处理的多个处理浴；以及使所述聚乙烯醇系树脂膜沿着所述输送方向延伸的延伸部，所述多个处理浴至少具备第一处理浴和配置于第一处理浴的下游侧且平均宽度比第一处理浴的平均宽度小的第二处理浴。
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