[实用新型]用于光学处理系统的底盘及光学处理系统有效
| 申请号： | 201720203642.0 | 申请日： | 2017-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN206998041U | 公开（公告）日： | 2018-02-13 |
| 发明（设计）人： | 奥代德·莫;约哈·马纳什;达恩·阿隆;马克·罗宾·谢里登 | 申请（专利权）人： | 奥宝科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 齐杨 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请案针对于用于光学处理系统的底盘及光学处理系统。所述底盘包括工作台，其经调适以用于在其上放置需要沉积的目标；及以下各项中的至少一者装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料；多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住；及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。所述光学处理系统可提供比现有技术系统更准确、可靠、经济且容易的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 处理 系统 底盘 | ||
【主权项】：
一种用于光学处理系统的底盘，其特征在于，包括：工作台，其经调适以用于在其上放置需要沉积的目标；及以下各项中的至少一者：装载站，其位于所述工作台的前部上以用于在其处装载供体元件，所述供体元件提供用于所述沉积的材料，多个可调整销，其沿着所述工作台的外围而定位且将所述目标围住，及处置箱，其经调适以用于在利用所述供体元件之后自动接纳所述供体元件。
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