[实用新型]一种单晶硅双腔结构的光学标准具有效
申请号: | 201720205673.X | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN206804995U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 黄武达 | 申请(专利权)人: | 福州科思捷光电有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350000 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种单晶硅双腔结构的光学标准具,包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件,第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等,第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起,第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层,第一、第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层,第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔,第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层,第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同;本实用新型利用两个标准器件构成双腔结构的光学标准具,其厚度很小、稳定可靠,适用范围广;每个标准器件能够根据需要进行镀膜处理,具有更高的锐度和对比度,而且具有滤波作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 结构 光学 标准 | ||
【主权项】:
一种单晶硅双腔结构的光学标准具,其特征在于:包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等,所述第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起,所述第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层,所述第一标准器件和第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层,所述第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔,所述第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层,所述第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同。
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