[实用新型]提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置有效
| 申请号： | 201720215958.1 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN206553624U | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 张德培 | 申请（专利权）人： | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 上海市浦东新区郭守敬路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置，包括马蹄形磁铁、心形环、环心固定件、固定圆盘、动平衡块、霍尔传感固定块和轴固定柱。所述的马蹄形磁铁外形呈马蹄状，外侧是半圆弧，内侧是直槽口，其材料可采用铝镍钴合金5，此实用新型中，可采用多个马蹄形磁铁组合使用；所述的心形环是心形环状，环上有螺纹孔，用于固定马蹄形磁铁，其材料可选用304型号不锈钢；所述的环心固定件呈类椭圆形，上面有螺纹孔，用于与马蹄形磁铁固定，其材料可选用304型号不锈钢；所述的固定圆盘，外形呈圆形，固定圆盘上面有螺纹孔，固定圆盘在马蹄形磁铁上方，与马蹄形磁铁固定。此装置用于溅射沉积中，使等离子体内电子呈螺旋式运动，借着电子与分子间碰撞次数增加，增加等离子体中离子浓度，提高溅射镀膜的沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 溅射 镀膜 等离子体 离子 浓度 永磁 装置 | ||
【主权项】：
提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置，其特征在于：包括马蹄形磁铁、心形环、环心固定件、固定圆盘、动平衡块、霍尔传感固定块和轴固定柱；所述的马蹄形磁铁固定在心形环和固定圆盘之间，马蹄形磁铁北极固定在心形环上，马蹄形磁铁南极固定在环心固定件上，此实用新型中，可采用多个马蹄形磁铁组合使用；所述的固定圆盘在马蹄形磁铁上方，动平衡块固定在固定圆盘上，霍尔传感固定块固定在固定圆盘左侧矩形凹槽内；所述的轴固定柱与固定圆盘中心卡扣配合，将永磁装置固定在马达轴上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海陛通半导体能源科技股份有限公司，未经上海陛通半导体能源科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720215958.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
