[实用新型]单晶永磁场有效

专利信息
申请号: 201720224284.1 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN206570432U 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 张承臣;刘振凯;李恒盛 申请(专利权)人: 沈阳隆基电磁科技股份有限公司
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04;C30B29/06
代理公司: 抚顺宏达专利代理有限责任公司21102 代理人: 许翔
地址: 113122 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种单晶永磁场,该单晶永磁场由支架及固定在其上的导磁板、两轭板和两磁系构成,两磁系分别固定在两轭板上,两轭板通过导磁板连接,两磁系相对布置在单晶炉两侧,磁系中心与单晶炉主室结晶位置齐平,磁系、轭板及导磁板构成C形半围形状。本实用新型将永磁场运用到半导体硅的生产领域,使多晶硅在熔化后再结晶为单晶过程中在外加永磁场的情况下提高半导体硅工艺参数,改变3价和5价元素在半导体硅中的分布。与电磁场相比,本实用新型无能源消耗,节能环保,没有噪音污染,工作中无故障,免维护。
搜索关键词: 永磁
【主权项】:
一种单晶永磁场,由支架(1)及固定在其上的导磁板(2)、两轭板(3)和两磁系(4)构成,其特征是:两磁系(4)分别固定在两轭板(3)上,两轭板(3)通过导磁板(2)连接,两磁系(4)相对布置在单晶炉(5)两侧,磁系(4)中心与单晶炉(5)主室结晶位置齐平,磁系(4)、轭板(3)及导磁板(2)构成C形半围形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳隆基电磁科技股份有限公司,未经沈阳隆基电磁科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720224284.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top