[实用新型]一种林下石斛种植灌溉系统

摘要

本实用新型公开了一种林下石斛种植灌溉系统，整个基地分为A区和B区两个灌溉区，其中A区分为11个灌溉小区，B区分为19个灌溉小区，A区和B区单独灌溉；灌溉时，每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀灌溉两个灌溉小区；施肥时，如果需要全比例施肥，则每次只能开启一个电磁阀，如果不要求，则每次可同时开启同一个区内的两个电磁阀为两个灌溉小区同时施肥，本实用新型能够全面灌溉及施肥，灌溉和施肥较为均匀，设计较为合理。

主权项

一种林下石斛种植灌溉系统，其特征在于：包括A区和B区两个灌溉区，所述A区灌溉区分为11个灌溉小区，所述B区灌溉区分为19个灌溉小区，所述A区灌溉区和所述B区灌溉区的高差相对较大，最高点相差25m，所述A区灌溉区和所述B区灌溉区通过输水主管贯穿，所述输水主管上连接田间干管和田间支管分布灌溉，水流入口从所述A区灌溉区和所述B区灌溉区的两端进行入水，其入口处均依次连接有立式管道离心泵、砂石过滤器和两套叠片过滤器，所述A区灌溉区入口端还设置有免电源式比例注肥泵。