[实用新型]一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备，包括机体，所述机体上安装有罗茨泵，所述真空室下方安装有分子泵，且分子泵通过波纹管与抽气管道固定连接，所述真空室通过压缩装置与磁控溅射仓相连接，所述磁控溅射仓顶部分别设置有加热组件和轰击组件，所述轰击组件上安装有中频靶，所述磁控溅射仓下方分别设置有充气组件和大门刹车，所述机体内设置有镀膜室，且镀膜室下方安装有滑阀泵。本实用新型集蒸发镀膜与磁控溅射镀膜于一体，适合多类塑料（ABS、PS、PP、PC、PVC）、尼龙、树脂、玻璃等工件表面工艺处理，既有高效快节拍蒸发镀高反射铝膜，也可直流磁控溅射镀不锈钢膜、钛膜或中频磁控溅射镀铝膜。

主权项

一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备，包括机体（1），其特征在于：所述机体（1）上安装有罗茨泵（2），且机体（1）内部设置有真空室（3），所述真空室（3）下方安装有分子泵（11），且分子泵（11）通过波纹管（12）与抽气管道（10）固定连接，所述真空室（3）通过压缩装置（4）与磁控溅射仓（16）相连接，所述磁控溅射仓（16）顶部分别设置有加热组件（5）和轰击组件（6），且加热组件（5）设在轰击组件（6）左侧，所述轰击组件（6）上安装有中频靶（7），且中频靶（7）右侧设置有中心靶（8），所述磁控溅射仓（16）下方分别设置有充气组件（14）和大门刹车（15），所述机体（1）内设置有镀膜室（9），且镀膜室（9）下方安装有滑阀泵（17）。