[实用新型]粉体样品杂质分析仪有效
申请号: | 201720247206.3 | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN206638603U | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 黄廷磊;张姿 | 申请(专利权)人: | 黄廷磊;张姿 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N1/28 |
代理公司: | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司45107 | 代理人: | 黄玮 |
地址: | 541004 广西壮族自治*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种粉体样品杂质分析仪,包括进出料装置和平铺清扫装置,进出料装置包括设于铺料平台一端上方的漏斗和间歇下料机构以及出料斜斗;平铺清扫装置包括向前摊平而后回收粉体的平铺刮板和清扫刮板,两者前、后竖直设置并用弹性元件吊装于铺料平台上方悬伸的移动杆上,移动杆安装于螺母座上,螺母座旋合于铺料平台外设置的丝杆上,平铺、清扫刮板的前、后行程大于铺料平台的前、后端,于前、后最大行程处所述平铺刮板和清扫刮板的底端低于铺料平台;铺料平台上方设有向下对铺平粉体拍照的CCD相机,CCD相机并通过数据传输线连接显示处理终端。本实用新型的自动化程度高,识别杂质准确率高,体积小,安装简易,操作简单。 | ||
搜索关键词: | 样品 杂质 分析 | ||
【主权项】:
粉体样品杂质分析仪,其特征在于:包括对应于铺料平台(1)设置的进出料装置和平铺清扫装置,其中:所述进出料装置包括设于铺料平台(1)一端上方的漏斗(2)和与漏斗(2)连接的间歇下料机构(3),所述间歇下料机构(3)的出口下方设有将颗粒状粉体向铺料平台(1)下料的出料斜斗(4);所述平铺清扫装置包括将下料的颗粒状粉体从下料端向前摊平而后将摊平的颗粒状粉体向后回收的平铺刮板(5)和清扫刮板(6),所述平铺刮板(5)和清扫刮板(6)前、后竖直设置并通过弹性元件(7)吊装于铺料平台(1)上方悬伸的移动杆(8)上,所述移动杆(8)安装于螺母座(9)上,所述螺母座(9)旋合于铺料平台(1)外设置的丝杆(10)上,所述平铺刮板(5)和清扫刮板(6)的前、后行程大于铺料平台(1)的前、后端,于前、后最大行程处所述平铺刮板(5)和清扫刮板(6)的底端低于铺料平台(1);所述铺料平台(1)下料端的后下方设有粉体收集容器(23);所述铺料平台(1)上方设有向下对摊平的颗粒状粉体拍照的CCD相机(11)或CMOS相机,所述CCD相机(11)或CMOS相机由多脚相机架(12)支撑安装并通过数据传输线(13)连接显示处理终端(14),所述显示处理终端(14)实时对CCD相机(11)或CMOS相机传送来的图像数据进行图像处理,利用图像识别技术识别并标注出图像中杂质的位置,同时统计杂质颗粒的数量,并将处理好的图像和统计结果显示在显示处理终端(14)的显示器上。
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