[实用新型]具有薄膜图案的基板有效
| 申请号： | 201720250611.0 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN206627757U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 许铭案 | 申请（专利权）人： | 许铭案 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 毛广杰 |
| 地址： | 中国台湾苗栗*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种具有薄膜图案的基板，所述具有薄膜图案的基板包含一基板；至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。本实用新型运用光阻掀离制程的技术手段，来实现一次光罩、无蚀刻或一次蚀刻的技术功效，并达到无缝薄膜图案制作的特殊技术功效。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 薄膜 图案 | ||
【主权项】：
一种具有薄膜图案的基板，其特征在于，包含：一基板；至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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