[实用新型]气体匀流组件及片材表面处理装置

摘要

本实用新型公开的气体匀流组件，包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件，第一匀流件通过气体控制阀门连通气管，第一匀流件具有多个分气通路，第二匀流件上开设多个气孔，多个气孔与多个分气通路相通。本实用新型公开的片材表面处理装置，利用气流对片材进行表面处理，其包括箱体，还包括至少一个气体匀流组件，气体匀流组件设置于箱体内。本实用新型的片材表面处理装置通过在箱体内加装气体匀流组件，使氮气、臭氧进出箱体均匀分散，气流平稳、流速缓慢，有效避免气流冲击；气体在箱体内部均匀填充，使得箱体内部杂质排除更彻底，清洁范围无死角；臭氧与箱体内部并列排布的硅片接触更彻底，每片硅片周围的臭氧浓度均匀一致，保证氧化效果。

主权项

气体匀流组件，包括气体控制阀门和连接所述气体控制阀门的气管，其特征在于，还包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件，所述第一匀流件通过所述气体控制阀门连通所述气管，所述第一匀流件具有多个分气通路，所述第二匀流件上开设多个气孔(12)，所述多个气孔(12)与所述多个分气通路相通。