[实用新型]一种皮革染色加工用皮胚充分挤水设备有效

专利信息
申请号: 201720257552.X 申请日: 2017-03-16
公开(公告)号: CN206570346U 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 林安益 申请(专利权)人: 林安益
主分类号: C14B1/58 分类号: C14B1/58
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司11403 代理人: 于洁
地址: 325007 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种挤水设备,尤其涉及一种皮革染色加工用皮胚充分挤水设备。本实用新型要解决的技术问题是提供一种皮革染色加工用皮胚充分挤水设备。为了解决上述技术问题,本实用新型提供了这样一种皮革染色加工用皮胚充分挤水设备,包括有竖直滑轨、第一集水槽、L形支架、挤水装置、第一连接杆等;L形支架内底部左侧设有挤水装置,且挤水装置左侧与L形支架右侧连接,L形支架内底部中间位置设有第一集水槽,L形支架内底部右侧设有竖直滑轨,竖直滑轨上设有下滑块和上滑块。本实用新型达到了对皮胚进行充分挤水,能有效处理挤出的水分,且有利于零部件的更换的效果,并通过设置晾干装置进一步加强了对皮革的脱水处理。
搜索关键词: 一种 皮革 染色 工用 充分 设备
【主权项】:
一种皮革染色加工用皮胚充分挤水设备,其特征在于,包括有竖直滑轨(1)、第一集水槽(2)、L形支架(3)、挤水装置(4)、第一连接杆(5)、导流机构(6)、下滑块(7)、上滑块(8)、上挤水板(9)和第二连接杆(10),L形支架(3)内底部左侧设有挤水装置(4),且挤水装置(4)左侧与L形支架(3)右侧连接,L形支架(3)内底部中间位置设有第一集水槽(2),L形支架(3)内底部右侧设有竖直滑轨(1),竖直滑轨(1)上设有下滑块(7)和上滑块(8),且下滑块(7)和上滑块(8)位于竖直滑轨(1)左侧,下滑块(7)位于上滑块(8)下方,下滑块(7)左侧设有导流机构(6),导流机构(6)底部位于第一集水槽(2)内,导流机构(6)左侧设有第一连接杆(5),第一连接杆(5)左侧与挤水装置(4)右侧连接,上滑块(8)左侧设有上挤水板(9),且上挤水板(9)正对导流机构(6),上挤水板(9)左侧设有第二连接杆(10),第二连接杆(10)左侧与挤水装置(4)右侧连接。
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