[实用新型]一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 201720267999.5 申请日: 2017-03-20
公开(公告)号: CN206512273U 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 皮超杰;徐国龙;夏震 申请(专利权)人: 郑州嘉晨化工科技有限公司
主分类号: C23C16/507 分类号: C23C16/507
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 451191 河南省郑州市*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,包括CVD反应室,所述CVD反应室的内壁上设置有磁感应线圈,所述CVD反应室的底部设置有反应台,所述反应台的顶部设置有升降台,所述升降台的顶部设置有基体。本实用新型通过设置在CVD反应室上的真空泵和压力表,可对CVD反应室内的压力进行控制,使CVD反应室的压力保持在0.13Pa左右,在负偏压作用下沉积到基体上形成金刚石薄膜,在低压下生成的金刚石薄膜,厚度均匀、生产效率高、沉积速率高、稳定性好、可调性和重复性好,保证金刚石薄膜的质量,通过设置的均速喷气喷头,可将射频等离子发生器内的等离子均速喷在基体上,有效提高基体上形成的金刚石薄膜厚度均匀性和稳定性。
搜索关键词: 一种 金刚石 薄膜 射频 等离子 化学 沉积 装置
【主权项】:
一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,包括CVD反应室(1)和反应气体混合器(4),其特征在于:所述CVD反应室(1)的内壁上设置有磁感应线圈(2),所述CVD反应室(1)的底部设置有反应台(3),所述反应台(3)的顶部设置有升降台(14),所述升降台(14)的顶部设置有基体(13),所述基体(13)和升降台(14)之间设置有衬底(12),所述反应气体混合器(4)通过管道连接有甲烷气体罐(6)和氢气罐(7),所述甲烷气体罐(6)和氢气罐(7)与反应气体混合器(4)之间均设置有流量计,所述反应气体混合器(4)的出口通过管道连接有射频等离子发生器(8),所述射频等离子发生器(8)通过波导(9)与CVD反应室(1)连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州嘉晨化工科技有限公司,未经郑州嘉晨化工科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720267999.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top