[实用新型]一种微波等离子体化学气相沉积金刚石膜的装置有效
申请号: | 201720268024.4 | 申请日: | 2017-03-20 |
公开(公告)号: | CN206529521U | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 皮超杰;夏震;徐国龙 | 申请(专利权)人: | 郑州嘉晨化工科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 451191 河南省郑州市*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种微波等离子体化学气相沉积金刚石膜的装置,包括微波源和反应沉积室,所述微波源与波导相连接,所述波导上设有模式转换器,所述模式转换器的下方设有圆柱形型腔,所述圆柱形型腔的下方安装有反应沉积室,所述反应沉积室的顶端设有石英微波窗,所述反应沉积室的侧壁上从上到下依次开设有进气口和观察窗口,所述反应沉积室的侧壁上开设有与测温仪相连接的测温孔,所述反应沉积室内设有沉积台,所述沉积台上方设有微波等离子体球,所述反应沉积室与真空泵相连接。本实用新型通过设置圆柱形型腔和半椭球形石英微波窗,可使得激发等离子体位置稳定、密度高,不仅提高了金刚石膜的沉积效率,还降低了合成成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 化学 沉积 金刚石 装置 | ||
【主权项】:
一种微波等离子体化学气相沉积金刚石膜的装置,包括微波源(1)和反应沉积室(2),其特征在于:所述微波源(1)与波导(3)相连接,所述波导(3)上设有模式转换器(4),所述模式转换器(4)的下方设有圆柱形型腔(5),所述圆柱形型腔(5)的下方安装有反应沉积室(2),所述反应沉积室(2)的顶端设有石英微波窗(6),所述反应沉积室(2)的侧壁上开设有进气口(7),所述进气口(7)下方的反应沉积室(2)侧壁上开设有观察窗口(8),所述反应沉积室(2)的侧壁上开设有与测温仪(9)相连接的测温孔,所述反应沉积室(2)内设有沉积台(10),所述沉积台(10)上设有样品托(11),所述样品托(11)的上方设有微波等离子体球(12),所述反应沉积室(2)与真空泵(13)相连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的