[实用新型]一种实现短波长紫外LED的外延结构有效

专利信息
申请号: 201720278084.4 申请日: 2017-03-21
公开(公告)号: CN206742273U 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 何苗;黄波;熊德平;杨思攀;王润 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/32;H01L33/14
代理公司: 广东广信君达律师事务所44329 代理人: 杨晓松
地址: 510062 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种实现短波长紫外LED的外延结构,所述外延结构自下而上包括依次设置的衬底、GaN缓冲层、未掺杂的GaN层、掺杂N型GaN层、多量子阱AlGaN/GaN层、P型AlGaN电子阻挡层、渐变P型AlGaN层和P型GaN层,所述衬底为蓝宝石衬底,所述GaN缓冲层的厚度为20~25nm,生长温度为530‑550℃,并在1030‑1080℃恒温6‑8分钟使GaN缓冲层重结晶,所述未掺杂的GaN层的厚度为2.0~2.5μm,生长温度为1030‑1080℃,所述掺杂N型GaN层的厚度为2.5‑3μm,生长温度为1030‑1080℃。本实用新型采用渐变P型AlGaN层,能减少极化效应,削弱电子阻挡层EBL到P型层之间的能带弯曲,使得红移现象得到改善,呈现更短的发光波长,发光强度也随之增大。
搜索关键词: 一种 实现 波长 紫外 led 外延 结构
【主权项】:
一种实现短波长紫外LED的外延结构,其特征在于:所述外延结构自下而上包括依次设置的衬底、GaN缓冲层、未掺杂的GaN层、掺杂N型GaN层、多量子阱AlGaN/GaN层、P型AlGaN电子阻挡层、渐变P型AlGaN层和P型GaN层。
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