[实用新型]防静电支撑体保护膜有效
| 申请号： | 201720309746.X | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN206635285U | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 孙攀;王玺;王健 | 申请（专利权）人： | 上海精涂新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/02 | 分类号： | C09J7/02 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司31208 | 代理人： | 董梅 |
| 地址： | 201316 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种防静电支撑体保护膜，用于晶片研磨、切割及电子零件的承载加工，包括基材（1）、压敏胶层（2）和离型膜（3），至少一面经过电晕处理的所述基材（1）涂布有抗静电压敏胶层（2），抗静电压敏胶层（2）上覆盖有离型膜（3），其中，所述基材（1）为厚度为25～200μm的PET或PO光学薄膜；所述压敏胶层（2）为丙烯酸体系胶类压敏胶，所述压敏胶层（2）为含有粒径为0.05nm～50um的防静电微粒的涂层，厚度5～40μm。该支撑体保护膜由基材、压敏胶层和离型膜构成，基材的一面与离型膜通过压敏胶层相贴合。本实用新型除具有支撑体保护膜的性能外，在经过UV光照减粘后，剥离时不会产生静电，实现了防静电功能，可满足被承载物处理加工过程中对防静电的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 支撑 保护膜 | ||
【主权项】：
一种防静电支撑体保护膜，用于晶片研磨、切割及电子零件的承载加工，包括基材（1）、压敏胶层和离型膜（3），其特征在于，至少一面经过电晕处理的所述基材（1）涂布有抗静电压敏胶层（2），抗静电压敏胶层（2）上覆盖有离型膜（3），其中，所述基材（1）为厚度为25～200μm的PET或PO光学薄膜；所述抗静电压敏胶层（2）为丙烯酸体系胶类压敏胶且其内含有粒径0.05nm～50um的防静电微粒的涂层，涂层厚度5～40μm。
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