[实用新型]一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置

摘要

本实用新型涉及化工反应设备技术领域，尤其是一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置，包括CH4储存罐、H2储存罐、蒸发器、CVD反应室和真空抽气泵,CH4储存罐和H2储存罐上均连接有支管，支管上且位于阀门的上方均设有流量计，支管另一端均连接有主管道，主管道上设有压力表和气体检测仪，主管道另一端连接有蒸发器，述蒸发器上通过设有的出气管道连接有CVD反应室，CVD反应室两侧均设有高温炉，CVD反应室底端通过抽气管道连接有真空抽气泵，有益效果在于通过气相化学反应形成固体物质沉积，不易受到外部环境影响；真空条件下进行沉积，提高获得沉积物效率，通过控制反应气体流量，从而控制涂层的密度，通过调节反应室内的真空压力从而有效控制涂层纯度。

主权项

一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置，包括CH4储存罐(1)、H2储存罐(2)、蒸发器(3)、CVD反应室(4)和真空抽气泵(5),其特征在于，所述CH4储存罐(1)和所述H2储存罐(2)上均连接有支管(6)，所述支管(6)上均安装有阀门(7)，所述支管(6)上且位于所述阀门(7)的上方均设有流量计(8)，所述支管(6)另一端均连接有主管道(13)，所述主管道(13)上设有压力表(9)和气体检测仪(15)，所述检测仪(15)底部通过软管分别与所述流量计(8)连接，所述主管道(13)另一端连接有所述蒸发器(3)，所述述蒸发器(3)上通过设有的出气管道(14)连接有所述CVD反应室(4)，所述CVD反应室(4)两侧均设有高温炉(11)，所述CVD反应室(4)底端通过抽气管道(12)连接有真空抽气泵(5)，所述抽气管道(12)上设有所述压力表(9)。