[实用新型]一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备

摘要

本实用新型公开了一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备，属于金刚石制备技术领域。其包括反应腔，所述反应腔的外部四周上设置有磁场线圈，反应腔的两端分别与加热装置和微波源连接，加热装置与基片连接，所述反应腔的侧壁上以及与微波源连接的一端均设置有气体管，所述气体管与分气板连接，气体管上设置有预热器，磁场线圈与反应腔之间设置有冷却系统，反应腔与真空系统连通。本实用新型的一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备，它将基片移至回旋磁场之外,从而使金刚石膜的沉积面积进一步提高，同时得到的金刚石薄膜纯度更高，更加均匀。

主权项

一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备，其特征在于：包括反应腔(1)，所述反应腔(1)的外部四周上设置有磁场线圈(2)，反应腔(1)的两端分别与加热装置(3)和微波源(4)连接，加热装置(3)与基片(5)连接，所述反应腔(1)的侧壁上以及与微波源(4)连接的一端均设置有气体管(6)，所述气体管(6)与分气板(7)连接，气体管(6)上设置有预热器(8)，磁场线圈(2)与反应腔(1)之间设置有冷却系统(9)，反应腔(1)与真空系统(10)连通。