[实用新型]一种红外截止滤光玻璃有效
申请号: | 201720343958.X | 申请日: | 2017-04-04 |
公开(公告)号: | CN206804909U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 陈玲丽 | 申请(专利权)人: | 广东诚卓光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 东莞众业知识产权代理事务所(普通合伙)44371 | 代理人: | 李宇翔 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种红外截止滤光玻璃,其特征在于包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的49层镀膜层,该49层镀膜层由低折射率的SiO2膜层及高折射率的五氧化三钛Ti3O5膜层多次交替堆叠组成。本实用新型在波长770‑1000nm的红外光波段,其透光率低于0.3%,且滤光非常稳定,无红外光透光率瞬间上升的现象。能满足数码相机、摄像机及精密光学仪器对红外截止滤光玻璃的透光要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 红外 截止 滤光 玻璃 | ||
【主权项】:
一种红外截止滤光玻璃,其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的49层镀膜层,该49层镀膜层由低折射率的SiO2膜层及高折射率的五氧化三钛Ti3O5膜层多次交替堆叠组成,该49层镀膜从内至外依次包括:第1层,SiO2膜层,厚度为109.45~109.51nm;第2层,Ti3O5膜层,厚度为7.95~8.01nm;第3层,SiO2膜层,厚度为13.60~13.66nm;第4层,Ti3O5膜层,厚度为76.17~76.23nm;第5层,SiO2膜层,厚度为131.07~131.13nm;第6层,Ti3O5膜层,厚度为82.76~82.82nm;第7层,SiO2膜层,厚度为129.49~129.55nm;第8层,Ti3O5膜层,厚度为73.35~73.41nm;第9层,SiO2膜层,厚度为26.79~26.85nm;第10层,Ti3O5膜层,厚度为12.36~12.42nm;第11层,SiO2膜层,厚度为56.71~56.77nm;第12层,Ti3O5膜层,厚度为87.30~87.36nm;第13层,SiO2膜层,厚度为118.49~118.55nm;第14层,Ti3O5膜层,厚度为79.45~79.51nm;第15层,SiO2膜层,厚度为122.21~122.27nm;第16层,Ti3O5膜层,厚度为79.51~79.57nm;第17层,SiO2膜层,厚度为115.48~115.54nm;第18层,Ti3O5膜层,厚度为83.09~83.15nm;第19层,SiO2膜层,厚度为120.59~120.65nm;第20层,Ti3O5膜层,厚度为75.26~75.32nm;第21层,SiO2膜层,厚度为119.97~120.03nm;第22层,Ti3O5膜层,厚度为77.99~78.05nm;第23层,SiO2膜层,厚度为122.11~122.17nm;第24层,Ti3O5膜层,厚度为77.27~77.33nm;第25层,SiO2膜层,厚度为119.68~119.74nm;第26层,Ti3O5膜层,厚度为80.44~80.50nm;第27层,SiO2膜层,厚度为128.48~128.54nm;第28层,Ti3O5膜层,厚度为81.48~81.54nm;第29层,SiO2膜层,厚度为136.25~136.31nm;第30层,Ti3O5膜层,厚度为101.90~101.96nm;第31层,SiO2膜层,厚度为159.10~159.16nm;第32层,Ti3O5膜层,厚度为100.97~101.03nm;第33层,SiO2膜层,厚度为135.22~135.28nm;第34层,Ti3O5膜层,厚度为84.77~84.83nm;第35层,SiO2膜层,厚度为131.08~131.14nm;第36层,Ti3O5膜层,厚度为90.08~90.14nm;第37层,SiO2膜层,厚度为141.71~141.77nm;第38层,Ti3O5膜层,厚度为110.02~110.08nm;第39层,SiO2膜层,厚度为148.28~148.34nm;第40层,Ti3O5膜层,厚度为95.58~95.64nm;第41层,SiO2膜层,厚度为134.05~134.11nm;第42层,Ti3O5膜层,厚度92.73~92.79nm;第43层,SiO2膜层,厚度为139.27~139.33nm;第44层,Ti3O5膜层,厚度为98.73~98.79nm;第45层,SiO2膜层,厚度为150.43~150.49nm;第46层,Ti3O5膜层,厚度为100.80~100.86nm;第47层,SiO2膜层,厚度为141.01~141.07nm;第48层,Ti3O5膜层,厚度为84.41~84.47nm;第49层,SiO2膜层,厚度为64.85~64.91nm。
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