[实用新型]光学成像装置有效
申请号: | 201720344709.2 | 申请日: | 2017-04-02 |
公开(公告)号: | CN207037686U | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 田雪松 | 申请(专利权)人: | 田雪松 |
主分类号: | G06K9/24 | 分类号: | G06K9/24 |
代理公司: | 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11539 | 代理人: | 李楠 |
地址: | 100098 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种光学成像装置,包括辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器;所述辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器通过光路相连接;当所述光学成像装置在基底上移动时,所述辐射源发出辐射光辐射具有位置编码的成像区域;所述辐射导向器将来自辐射源的辐射光引导到所述成像区域;所述视轴单元包括第一反射镜和聚焦透镜;所述第一反射镜将来自于所述成像区域的辐射改变方向;所述聚焦透镜将来自于所述成像区域的辐射聚焦到所述辐射传感器;所述辐射传感器接收来自所述成像区域的反射光,从而获取所述成像区域的位置编码图像。 | ||
搜索关键词: | 光学 成像 装置 | ||
【主权项】:
一种光学成像装置,其特征在于,所述装置包括:辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器;所述辐射源、辐射导向器、视轴单元、辐射传感器通过光路相连接;当所述光学成像装置在基底上移动时,所述辐射源发出辐射光辐射具有位置编码的成像区域;所述辐射导向器将来自辐射源的辐射光引导到所述成像区域;所述视轴单元包括第一反射镜和聚焦透镜;所述第一反射镜将来自于所述成像区域的辐射改变方向;所述聚焦透镜将来自于所述成像区域的辐射聚焦到所述辐射传感器;所述辐射传感器接收来自所述成像区域的反射光,从而获取所述成像区域的位置编码图像。
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