[实用新型]辐射检查系统有效
申请号: | 201720382803.7 | 申请日: | 2017-04-12 |
公开(公告)号: | CN207096133U | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 王少锋;曹艳锋;王彦华;李苏祺;郭近贤 | 申请(专利权)人: | 北京君和信达科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11452 | 代理人: | 屠长存 |
地址: | 100088 北京市西*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种辐射检查系统,包括辐射成像装置;以及控制装置,用于控制辐射成像装置以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像,以得到扫描图像,其中,在扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下,控制辐射成像装置使用第二扫描模式对被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像,以得到复检图像,第二扫描模式不同于第一扫描模式。由此,通过以不同于第一扫描模式的第二扫描模式对需要复检的复检嫌疑区域进行扫描,可以基于得到的复检图像准确、方便地确定扫描图像中的需要复检的复检嫌疑区域是否存在问题。 | ||
搜索关键词: | 辐射 检查 系统 | ||
【主权项】:
一种辐射检查系统,其特征在于,包括:辐射成像装置,用于以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像,以得到扫描图像,并且在所述扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下,以第二扫描模式对所述被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像以得到复检图像,所述第二扫描模式不同于所述第一扫描模式;以及控制装置,用于控制所述辐射成像装置在所述第一扫描模式和所述第二扫射模式之间切换。
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