[实用新型]光刻机及其掩膜机台有效
| 申请号： | 201720384958.4 | 申请日： | 2017-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN206757297U | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 张良;吴静銮;郭伟;胡媛;卢盈;陈雪银;田金华;李成良;韩姣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙)31291 | 代理人： | 侯莉,毛立群 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻机及其掩膜机台，该掩膜机台包括承载基座、位于所述承载基座上的若干支柱以及第一气道，所述第一气道至少有一段设置于所述支柱内，并贯穿所述支柱的支撑面。利用本实用新型所提供的掩膜机台能够检测掩膜版上与支柱接触的位置是否存在颗粒，以此避免光刻图案失焦，进而提高晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 及其 机台 | ||
【主权项】：
一种光刻机的掩膜机台，其特征在于，包括：承载基座；位于所述承载基座上的若干支柱，所述支柱用于支撑掩膜版；第一气道，至少有一段设置于所述支柱内，并贯穿所述支柱的支撑面。
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