[实用新型]一种石斛灌溉装置有效
申请号: | 201720410701.1 | 申请日: | 2017-04-19 |
公开(公告)号: | CN206728808U | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 杨忠平 | 申请(专利权)人: | 安徽省霍山县霍鼎仙石斛开发有限公司 |
主分类号: | A01G27/02 | 分类号: | A01G27/02;A01G29/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 237200 安徽省六安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种石斛灌溉装置,包括自来水管、阀门、水池、抽水管、水泵、灌溉水管、渗水孔、管道封头、石斛植株、种植基质、过滤板、集水槽、回水管、栽培盆放置槽、排水孔、栽培盆、连接管、雾化喷头、套筒和支撑杆;本实用新型能够高效的利用水分对石斛植株进行均匀的灌溉,有效的保证了石斛植株能够均匀的接受水分的滋润,避免了传统的喷洒浇灌或者漫灌对石斛植株造成的伤害;通过根部漫灌与枝叶顶端的雾化喷洒,更有利于石斛植株吸收水分和养分,加快石斛植株的整体生长;多余的水分能够通过渗出进行重新回收利用,有效的防止因为水分太多而导致石斛出现淹苗和根部腐烂现象的发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 石斛 灌溉 装置 | ||
【主权项】:
一种石斛灌溉装置,包括水池(3)、集水槽(10)和栽培盆放置槽(12),其特征在于:所述水池(3)连通自来水管(1),且自来水水管(1)侧壁设置阀门(2);所述栽培盆放置槽(12)内卡合栽培盆(14),且栽培盆(14)内放置种植基质(8);所述栽培盆(14)底端设置过滤板(9),且过滤板(9)底端设有排水孔(13);所述栽培盆放置槽(12)底端设置所述集水槽(10),且集水槽(10)底端连接回水管(11);所述栽培盆放置槽(12)顶端设置灌溉水管(6),且灌溉水管(6)侧壁均匀设有渗水孔(61);所述灌溉水管(6)一端设置管道封头(62),且灌溉水管(6)另一端连接水泵(5);所述水泵(5)与所述水池(3)之间通过抽水管(4)连通;所述栽培盆(14)内种植石斛植株(7);所述石斛植株(7)顶端设置连接管(15),且连接管(15)一端连接灌溉水管(6);所述连接管(15)与所述灌溉水管(6)平行段等距分布雾化喷头(16),且连接管(15)与栽培盆放置槽之间设置支撑杆(18);所述支撑杆(18)与所述连接管(15)之间通过套管(17)连接。
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