[实用新型]一种环形均匀气流供粉装置有效
申请号: | 201720429867.8 | 申请日: | 2017-04-19 |
公开(公告)号: | CN206640857U | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 朱珠 | 申请(专利权)人: | 洛阳誉芯金刚石有限公司 |
主分类号: | H05H1/42 | 分类号: | H05H1/42 |
代理公司: | 北京智沃律师事务所11620 | 代理人: | 王屹东 |
地址: | 471000 河南省洛阳市涧西区*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型提供一种环形均匀气流供粉装置,包括环形的等离子体发生器、环形的原料喷射装置、淬冷室、收集室和冷却水管,所述等离子体发生器和原料喷射装置相对设置,所述等离子体发生器的环形直径小于原料喷射装置的环形直径,所述等离子体发生器设置有冷却装置,所述淬冷室和收集室设置有冷却水管,所述等离子体发生器、原料喷射装置位于淬冷室的中部。所述等离子体发生器、环形的原料喷射装置相对设置,并且设置有切向入口,能够保证各个方向均匀供粉,使原料的分布更加均匀,熔化蒸发更加充分,从而得到质量更高的纳米粉材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 环形 均匀 气流 装置 | ||
【主权项】:
一种环形均匀气流供粉装置,其特征在于:包括环形的等离子体发生器、环形的原料喷射装置、淬冷室、收集室和冷却水管,所述等离子体发生器和原料喷射装置相对设置,所述等离子体发生器的环形直径小于原料喷射装置的环形直径,所述等离子体发生器设置有冷却装置,所述淬冷室和收集室设置有冷却水管,所述等离子体发生器、原料喷射装置位于淬冷室的中部。
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