[实用新型]一种气液再分布器及上流式反应器有效
| 申请号： | 201720439447.8 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN206688666U | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 雍玉梅;王威杰;杨超;毛在砂 | 申请（专利权）人： | 中国科学院过程工程研究所 |
| 主分类号： | B01J8/00 | 分类号： | B01J8/00;B01J8/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 张海英,林波 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及上流式反应器技术领域，公开了一种气液再分布器，包括上下叠置的第一层分布组件和第二层分布组件，所述第一层分布组件和第二层分布组件均包括多条间隔设置的档条，所述第一层分布组件的档条和所述第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔。本实用新型还公开了一种上流式反应器，包括上述的气液再分布器。本实用新型提出的气液再分布器，第一层分布组件的档条和第二层分布组件的档条交错设置形成分布孔，气液能够由下而上通过该分布孔，使得气液分布均匀度高，避免壁面效应的发生，传质效率高，同时该结构简单，加工制造便利，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 再分 上流 反应器 | ||
【主权项】：
一种气液再分布器，其特征在于，包括上下叠置的第一层分布组件(1)和第二层分布组件(2)，所述第一层分布组件(1)和第二层分布组件(2)均包括多条间隔设置的档条，所述第一层分布组件(1)的档条和所述第二层分布组件(2)的档条交错设置形成分布孔(3)。
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