[实用新型]场效应管有效
申请号: | 201720466945.1 | 申请日: | 2017-04-28 |
公开(公告)号: | CN206878005U | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 任留涛;李菲;禹久赢 | 申请(专利权)人: | 上海超致半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L29/08 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 | 代理人: | 赵朋晓 |
地址: | 201203 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种场效应管,包括P型衬底;所述P型衬底上表面设有N型外延层,所述N型外延层上部设有栅极沟槽,所述N型外延层表面有氧化层,所述栅极沟槽内设有多晶硅栅;所述沟槽两侧形成有P型阱和N型有源区,且所述N型有源区位于P型阱的上方,所述氧化层上部涂覆有防护层,所述防护层中设有连接至N型有源区的接触孔。本实用新型结构简单,易于制备。能够有效保护氧化层在加工过程中免于腐蚀,保证场效应管的耐压能力。 | ||
搜索关键词: | 场效应 | ||
【主权项】:
一种场效应管,其特征在于包括:P型衬底(1);所述P型衬底(1)上表面设有N型外延层(2),所述N型外延层(2)上部设有栅极沟槽(21),所述N型外延层(2)表面有氧化层(22),所述栅极沟槽(21)内设有栅氧化层(24)和多晶硅栅(23);所述沟槽(21)两侧形成有P型阱(3)和N型有源区(4),且所述N型有源区(4)位于P型阱(3)的上方,所述氧化层(22)上部涂覆有防护层(5),所述防护层(5)中设有连接至N型有源区(4)的接触孔(51)。
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