[实用新型]成像系统有效
| 申请号： | 201720580090.5 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN206759600U | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | B·A·瓦尔特斯塔;N·W·查普曼 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;H04N9/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 张小稳 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及成像系统。要解决的一个技术问题是提供改进的成像系统。该成像系统包括包括相位检测像素的第一图像传感器；被构造为将光聚焦在所述第一图像传感器上的第一透镜模块；不包括相位检测像素的第二图像传感器；被构造为将光聚焦在所述第二图像传感器上的第二透镜模块；以及被构造为基于来自所述相位检测像素的相位检测数据来调整所述第二透镜模块的处理电路。通过本实用新型，可以获得改进的成像系统。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种成像系统，包括：包括相位检测像素的第一图像传感器；被构造为将光聚焦在所述第一图像传感器上的第一透镜模块；不包括相位检测像素的第二图像传感器；被构造为将光聚焦在所述第二图像传感器上的第二透镜模块；以及被构造为基于来自所述相位检测像素的相位检测数据来调整所述第二透镜模块的处理电路。
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